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晶體振蕩露點(diǎn)儀技術(shù)簡(jiǎn)介

日期:2017-12-13 作者: 來(lái)源: 瀏覽:

 晶體振蕩露點(diǎn)儀技術(shù)簡(jiǎn)介

在很多過(guò)程工藝中,客戶(hù)更加關(guān)心水分含量ppmV,例如催化重整裝置。晶體振蕩露點(diǎn)儀技術(shù)直接測(cè)量氣體中的水分ppmV含量。
石英晶體微平衡技術(shù)(QCM)是基于測(cè)量在樣氣中的石英晶體的振蕩頻率。下圖是一個(gè)典型的晶體的結(jié)構(gòu):

 

感濕石英晶體
對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)的晶體而言,其震蕩頻率并不會(huì)對(duì)水汽產(chǎn)生響應(yīng)。QCM微水測(cè)量技術(shù)在黃金電 表面涂布一種聚合物。聚合物涂層的特性是可以快速吸收水汽或者釋放水汽而干燥。重要的是,作為聚合物涂層吸收水汽的結(jié)果,石英晶體的質(zhì)量會(huì)增加,因而晶體的振蕩頻率會(huì)發(fā)生變化。
TIM截圖20171213112944.png
相反,當(dāng)聚合物涂層干燥的時(shí)候,晶體的質(zhì)量減少,其振蕩頻率增加。
 
為了測(cè)量被吸收水汽,將傳感器(聚合物涂層的晶體)置于恒溫的測(cè)量腔室,通過(guò)的樣氣流量穩(wěn)定在100毫升/分鐘。測(cè)量周期分為兩個(gè)階段。起初,干燥后的樣氣經(jīng)過(guò)傳感器測(cè)量腔室,測(cè)量此時(shí)石英晶體的振蕩頻率。隨后,未經(jīng)干燥的樣氣通過(guò)測(cè)量室,再次測(cè)量晶體的振蕩頻率。
 
對(duì)應(yīng)干氣和濕氣的頻率之差與樣氣中的水汽含量成比例關(guān)系。每個(gè)周期中,通過(guò)干氣和濕氣的時(shí)間各為30秒,如果改變這個(gè)時(shí)間關(guān)系,則會(huì)影響儀器的校驗(yàn)。
 
在實(shí)際運(yùn)用中,為了補(bǔ)償外部溫度等因素造成的影響,測(cè)量腔室中安置了兩個(gè)完 相同的晶體。一個(gè)是有聚合物涂層,而另外一個(gè)沒(méi)有涂層的作為參考晶體。在每個(gè)測(cè)量周期,無(wú)論是干氣還是濕氣,測(cè)量晶體和參考晶體的輸出頻率經(jīng)過(guò)混合,過(guò)濾,除去所有不相關(guān)的頻率,得到了兩者之間的差值(fr- fs)。由于這兩個(gè)晶體完 相同,所有外部因素和內(nèi)部干擾對(duì)兩者的影響都是完 同等的,這樣,所有可能干擾晶體頻率的因素(溫度、老化等),在fr- fs 值中都被完 去除了。氣體回路包括分子篩干燥筒,濕度發(fā)生器,以及采樣模塊;采樣模塊包含三個(gè)用于流量控制的電磁閥,以及安置了測(cè)量晶體和參考晶體的測(cè)量腔室。測(cè)量振蕩器和參考振蕩器位于測(cè)量模塊的末端。整個(gè)測(cè)量腔室恒溫在60°C。下圖是一個(gè)測(cè)量流路圖示。
露點(diǎn)儀流程圖.png
干氣流經(jīng)V1, 濕氣(樣氣)流經(jīng)V3,濕度發(fā)生器產(chǎn)生5~10ppmV的校驗(yàn)氣經(jīng)過(guò)V2,每個(gè)流路的流量穩(wěn)定在100毫升/分鐘。各路氣體輪流進(jìn)入測(cè)量腔室,或者被直接排空。

 



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